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SU-8 3000系列

服务地区:全国
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价格:面议

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详细介绍

品 牌:Microchem

产 地:美国

型 号:SU-8


进口Microchem SU-8光刻胶系列,克服了普通光刻胶采用UV光刻深宽比不足的问题,在近紫外光(365nm-400nm)范围内光吸收度很低,且整个光刻胶层所获得的曝光量均匀一致,可得到具有垂直侧壁和高深宽比的厚膜图形。


Microchem SU-8光刻胶2000系列:


型号:SU-8 2000.5/2002/2005/2007/2010/2015/3000


进口SU-8光刻胶系列,克服了普通光刻胶采用UV光刻深宽比不足的问题,在近紫外光(360nm-400nm)范围内光吸收度很低,且整个光刻胶层所获得的曝光量均匀一致,可得到具有侧壁和高深宽比的厚膜图形。


SU-8光刻胶光刻工艺


将SU-8光刻胶组分旋涂在基材上,旋涂厚度几至几百微米,涂覆晶圆片经过前烘并冷却至室温,在烘干过程中,优先选择加热均匀且温度控制


精确的加热板;不能使用鼓风干燥箱,防止因为光刻胶表面优先固话从而阻止内层光刻胶溶剂的挥发,冷却后,将负光掩模与涂覆晶片接触并在汞灯的


紫外辐射剂量10-250mJ/cm²条件下进行曝光,曝光结束后,选择适合的烘烤温度及时间,将晶片在显影液中浸渍显影,随后用氮气吹干。


 

SU-8光刻胶的优点


1. SU-8光刻胶在近紫外光(356nm-400nm)范围内光吸收度很低,且整个光刻胶       层所获得的曝光量均匀一致,可得到具有垂直侧壁和高深宽比的厚膜图形


2. SU-8光刻胶具有良好的力学性能,抗化学腐蚀性和热稳定性


3. SU-8光刻胶在受到紫外辐射后发生交联,是一种化学扩大负性胶,可以形成                            台阶等结构复杂的图形


4. SU-8胶不导电,在电镀时可以直接作为绝缘体使用


 

由于具有较多有点,SU-8胶正被逐渐应用于MEMS、芯片封装和微加工等领域。目前,直接采用SU8光刻胶来制备深宽比高的微结构与微零件已经成为


微加工领域的一项新技术,在微流控芯片加工中,SU-8主要应用于快速模塑法加工PDMS微流芯片


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